低溫恒溫循環器常應用于對半導體制造裝置發熱部的冷卻:單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。并且對激光裝置發熱部分的冷卻:激光加工、熔接機的發熱部分、激光標志裝置、發生裝置、二氧化碳激光加工機等起到很大作用。
低溫恒溫循環器提供-40℃~105℃溫度范圍內的高、低恒溫液體，以滿足用高、低溫做反應的恒溫儀器的需要。特別適用與化學反應釜、發酵罐、旋轉蒸發器、電子顯微鏡、阿貝折先儀、蒸發皿、生物制藥反應器等實驗設備配套使用。*內循環和外循環泵系統，內循環使儀器溫度均勻恒定，外循環泵輸出16升/分~18升/分在流量高、低溫液體。8升~40升的工作槽容積內還可放入裝有生化試劑或被測樣品的各種容器，直接進行高低溫試驗或測試，實現一機多用。
低溫恒溫循環器可選配RS232或RS485通訊接口，實現數據傳輸進行遠距離控制。
低溫恒溫循環器可以選配程序控溫系統，其特點為：
☆大屏幕液晶顯示，軟件程序控制，可編輯時間/溫度曲線。
☆多段可編溫度、時間程序，控制升溫、恒溫、降溫過程，且升溫速度、降溫速度可按用戶要求設置自動控制。
☆編寫儲存30個溫度/時間段，每個程序可設置0～9999分鐘運行時間。
☆多種參數設定方式:方便快捷的輸入鍵、移位鍵和增鍵、減鍵，設定溫度/時間段及其他高級控制參數或直接調儲存的溫度/時間設定程序。
低溫恒溫循環器應用領域：
☆生化領域：旋轉蒸發儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物發酵罐、化學反應器(合成器)等。
☆材料領域：電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機、ICP刻蝕、各種半導體設備、疲勞試驗機、化學沉積系統、原子沉積系統等。
☆醫療領域：超導磁共振、直線加速器、CT、低磁場核磁共振、X光機、醫用冷帽、降溫毯等等。
☆物化領域：激光器、磁場、各種分子泵、擴散泵、離子泵以及包括材料領域。使用的各種需水冷設備。
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